系統(tǒng)主要功能指標(biāo):
寬光譜測(cè)量范圍:UV-VIS-NIR, 200-900nm;
高系統(tǒng)時(shí)間分辨率: <=5ps
壽命衰減測(cè)量時(shí)間范圍:<=50ps—100us
高系統(tǒng)光譜分辨率: <0.1nm
寬單次成譜范圍: >=200nm
靜態(tài)(穩(wěn)態(tài))光譜采集,
瞬態(tài)時(shí)間分辨光譜圖像及熒光壽命曲線
系統(tǒng)集成整體控制及數(shù)據(jù)處理軟件
超快時(shí)間分辨光譜系統(tǒng) 是由光譜儀、超快探測(cè)器、耦合光路、系統(tǒng)控制及數(shù)據(jù)處理軟件組成。光譜儀對(duì)入射光信號(hào)進(jìn)行分光,分光光譜耦合到超快探測(cè)器,入射光由透鏡聚焦在陰極上,激發(fā)出的光電子通過(guò)陽(yáng)極加速,入射到偏轉(zhuǎn)場(chǎng)中的電極間,此時(shí)電壓加在偏轉(zhuǎn)電極上,光電子被電場(chǎng)偏轉(zhuǎn),激射熒光屏,以光信號(hào)的形式成像在熒光屏上。轉(zhuǎn)換后的光信號(hào)還可以再通過(guò)圖像增強(qiáng)器進(jìn)行能量放大,并在圖像增強(qiáng)器的熒光屏上成像。最后通過(guò)制冷相機(jī)采集熒光屏上信號(hào)。因?yàn)殡娮拥钠D(zhuǎn)與其承受的偏轉(zhuǎn)電場(chǎng)成正比,因此,通過(guò)電極的時(shí)間差就可以作為熒光屏上條紋成像的位置差被記錄下來(lái),也就是將入射光的時(shí)間軸轉(zhuǎn)換成了熒光屏空間軸。系統(tǒng)控制軟件用于整個(gè)系統(tǒng)的參數(shù)設(shè)置、功能切換、數(shù)據(jù)采集等,圖像工作站用于采集數(shù)據(jù)處理分析
主要應(yīng)用方向
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光譜儀建議選型參數(shù)列表
光譜儀型號(hào) |
Omni-λ2002i |
Omni-λ3004i |
Omni-λ5004i |
Omni-λ7504i |
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光譜儀焦距 |
200mm |
320mm |
500mm |
750mm |
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相對(duì)孔徑 |
F/3.5 |
F/4.2 |
F/6.5 |
F/9.7 |
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光譜分辨率(1200l/mm) |
0.3nm |
0.1nm |
0.08nm |
0.05nm |
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波長(zhǎng)準(zhǔn)確度 |
+/-0.2nm |
+/-0.2nm |
+/-0.15nm |
+/-0.1nm |
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倒線色散(1200l/mm) |
3.6nm/mm |
2.3nm/mm |
1.7nm/mm |
1.1nm/mm |
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光柵尺寸 |
50*50mm |
68*68mm |
68*68mm |
68*68mm |
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光柵臺(tái) |
雙光柵 |
三光柵 |
三光柵 |
三光柵 |
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與探測(cè)器耦合 |
中繼光路1:1耦合,配合二維焦面精密調(diào)節(jié)一體化底板 |
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系統(tǒng)光譜分辨率(1200l/mm) |
<=0.3nm |
<=0.2nm |
<=0.1nm |
<0.08nm |
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一次攝譜范圍(150 l/mm) |
>230nm |
>150nm |
>90nm |
>60nm |
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光譜儀入口選項(xiàng) |
光纖及光纖接口,標(biāo)準(zhǔn)熒光樣品室,鏡頭收集耦合,共聚焦顯微收集耦合等 |
超快時(shí)間分辨光譜測(cè)試系統(tǒng)既可以與飛秒超快光源配合完成獨(dú)立的光譜測(cè)試,也可以與卓立漢光的其他系統(tǒng)比如 TCSPC, RTS&FLIM顯微熒光壽命成像系統(tǒng),TAM900寬場(chǎng)瞬態(tài)吸收成像系統(tǒng),以及低溫制冷室,飛秒&皮秒激光器等配合完成更為復(fù)雜全面的超快測(cè)試。
Zolix其他可配合超快測(cè)量系統(tǒng)
lRTS2& FLIM 顯微熒光壽命成像系統(tǒng)
光譜掃描范圍:200-900nm(可拓展)
最小時(shí)間分辨率:16ps
熒光壽命測(cè)量范圍:500ps-1μs@ 皮秒脈沖激光器
激發(fā)源: 375nm- 670nm 皮秒脈沖激光器可選,或使用飛秒光源
科研級(jí)正置顯微鏡及電動(dòng)位移臺(tái)
空間分辨率:≤1μm@100X 物鏡@405nm 皮秒脈沖激光器
OmniFluo-FM 熒光壽命成像專用軟件
Omni-TAM900 寬場(chǎng)飛秒瞬態(tài)吸收成像系統(tǒng)
測(cè)量模式:
探測(cè)器:sCMOS相機(jī)
成像空間分辨率:優(yōu)于500nm
載流子遷移定位精度 優(yōu)于30nm
時(shí)間延時(shí)范圍:0-4ns或0-8ns可選
搭配倒置顯微鏡,可兼容低溫,探針臺(tái),電學(xué)調(diào)控等模塊
<20ps 的鈣鈦礦薄膜ASE 發(fā)光壽命曲線
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